Скачать ГОСТ 25196-82 Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования

Дата актуализации: 01.01.2024

ГОСТ 25196-82

Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования

Обозначение: ГОСТ 25196-82
Статус:действующий
Название рус.:Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования
Название англ.:Vacuum equipment. Apparatus for ion implantation. General technical requirements
Дата актуализации текста:06.04.2015
Дата актуализации описания:01.07.2023
Дата издания:04.05.1982
Дата введения:01.07.1983
Код ОКП:627335
Содержит требования:СТ СЭВ 2760-80
Нормативные ссылки:ГОСТ 24786-81
Область применения:Настоящий стандарт распространяется на установки для ионной имплантации, предназначенные для внедрения ионов твердых, газообразных и жидких веществ массой от 1,666 57х10 в ст. минус 27 до 217,534 67х10 в ст. минус 27 кг (от 1 до 131 а. е. м.), в том числе элементарных и многозарядных ионов бора, фосфора, цинка, мышьяка, селена и сурьмы с эквивалентной энергией ионов от 1,6х10 в ст. минус 15 до 1,6х10 в ст. минус 13 Дж (от 10 до 1200 кэВ) при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем и других изделий микроэлектроники
ГОСТ 25196-82ГОСТ 25196-82ГОСТ 25196-82